Halbleiterhersteller ASML liefert zweite ‘High NA’ EUV-Anlage aus – .

Halbleiterhersteller ASML liefert zweite ‘High NA’ EUV-Anlage aus – .
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ASML, du grand Ausrüster von Computerchip-Herstellern, a déclaré à Mittwoch qu’il s’agissait d’un nouveau système de lithographie EUV « High NA » et d’un seul chapeau de Kunden.

ASML, depuis décembre/janvier, est un High NA-Anlage et Intel geliefert hat, nannte den 2weiten Kunden nicht. Il existe des possibilités pour le fabricant de chipsets TSMC, les puces pour Nvidia et Apple, ou pour Samsung.

Ces machines coûtent environ 350 millions d’euros (370 millions de dollars) et sont vendues dans de nouveaux formats, y compris de petits copeaux.

Le Verkauf wurde zusammen mit den Ergebnissen von ASML für das erste Quartal bekannt gegeben, die hinder den Erwartungen zurückblieben.

TSMC et Samsung ont été mis à jour, le nouveau système a été installé. En ce qui concerne le transistor, la puce est emballée et peut être retirée.

Intel a été lancé en 2026-2027 avec les puces de la série 14A avec les principales usines High NA dans le début de la production.

L’allererste High NA-Machine se trouve dans l’ASML-Zentrale à Veldhoven, dans les basses terres, où se trouvent les ingénieurs de la technologie EUV, zu Testzwecken Zugang zu ihr erhalten. Les parties extérieures du chapeau comportent 10 à 20 matrices.

Le système de lithographie utilise les lumières, um die Schaltkreise der Chips zu erzeugen. La première génération du système EUV d’ASML, la nouvelle génération de puces pour smartphones et KI-Chips, est basée sur le fait qu’elle est bien connue “extrême ultraviolet”, et elle est conçue avec l’ajout de deux 13 nanomètres. aussi kleiner als ein Virus.

Dans une photo et une photo, die am mittwoch auf Les connaissances théoriques des machines peuvent être trouvées sur le site Web d’ASML à 8 nanomètres.

(1 $ = 0,9394 euro) (Bericht von Toby Sterling. Bearbeitung par Jane Merriman)

 
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